一体化光刻处理企图亮相上海新国际博览中央

发布者: admin发布时间:2020-11-21 21:33 浏览次数:

  公民网上海6月28日电 (龚莎) 6月27日至29日, ASML(阿斯麦)携全方位一体化光刻解决规划亮相上海新国际博览中央,参预环球规模最大的国际半导体展。

  光刻修立是半导体修立步调的中央设备之一。光刻工艺决计了半导体芯片的线宽,同时也锐意了芯片的本能和功耗。ASML深耕光刻技巧•,笔据墟市产品需求•,一直冲破技巧极限,支持客户延续中断芯片线宽,进取芯片机能•,减少芯片功耗•。

  在SEMICON China 2020时代的网络平台直播上••,ASML举世副总裁、华夏区总裁沈波表示:“ASML深耕中国墟市逾越三十年,从第一台光刻机开始,大家接连以客户为中心,连续引进改进的光刻技术和效劳,成为华夏半导体行业的亲历者、见证者、和激昂者。未来,ASML还将接连出席、扩充组织•、培育人才,携手行业搭档,和中国半导体财产实现连结进步•。”

  本次展会ASML带来的全方位的光刻解决宗旨,征求光刻机,量测检验,和策画光刻等,为全球半导体财富客户提供了巩固微缩与进取良率的完全宗旨,同时也不停地带动摩尔定律成为实践•。

  一年一度的国际半导体展SEMICON China也是全球半导体人才交流的盛会。在6月28号举行的ASML中国线上分享会上,ASML中原高管和网友就行业话题、人才提高观和企业文化等举行了深远的交流和互动•。

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